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本發明涉及(ji)經下述(shu)通(tong)式(1)、(2)及(ji)(3)表示的少(shao)1種基團進(jin)行過表面(mian)改(gai)性(xing)的表面(mian)改(gai)性(xing)膠體(ti)二氧化(hua)硅以及(ji)含有該表面(mian)改(gai)性(xing)膠體(ti)二氧化(hua)硅的CMP用(yong)研磨(mo)組(zu)合(he)物。根據(ju)上述(shu)本發明,。

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