化學機械研磨后清洗技術簡介_百度文庫
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芯片(pian)制(zhi)(zhi)造(zao)化學(xue)機械研(yan)磨(mo)廢水處理回用摘要(yao):化學(xue)機械研(yan)磨(mo)廢水產生量大(da)但(dan)總體污染物(wu)濃(nong)度不高(gao),回用潛力巨(ju)大(da),其處理及回用技術(shu)是芯片(pian)制(zhi)(zhi)造(zao)企(qi)業的研(yan)究。文章。
化學機械研磨廢水處理及回用技術的研究進展-《環境科學與技術》
“楔形(xing)”TEM樣品的機械研(yan)磨制備技(ji)術張啟華,趙燕麗,高強,李明(ming),牛崇實,簡維(wei)廷(中芯國際集成(cheng)電路制造(zao)有限公司,上海201203)摘(zhai)要:介(jie)紹(shao)了一種用機械。
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本發明(ming)提供了一種化學機械研磨(mo)的方法,包(bao)括下列(lie)步驟:提供半導體襯底,所述(shu)半導體襯底上具有介質(zhi)層(ceng),所述(shu)介質(zhi)層(ceng)內包(bao)含通孔和(he)/或(huo)溝槽;在(zai)介質(zhi)層(ceng)上及通孔和(he)/或(huo)溝槽的。
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英特爾半導體(大連)有限公司招聘化(hua)學機械研磨液(ye)技(ji)術(shu)員(yuan),發布時間:2010年(nian)04月(yue)09日,職(zhi)位類別:全職(zhi),工作地區(qu):大連,職(zhi)位描述:化(hua)學機械研磨液(ye)技(ji)術(shu)員(yuan)工作要求:?輔助工程師。
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銅互連和低K材料是半(ban)導體深亞微米工(gong)藝(yi)中涉及(ji)的(de)(de)兩個(ge)重要的(de)(de)技術,而這(zhe)兩種新技術的(de)(de)發(fa)展也(ye)給傳統(tong)的(de)(de)化學機械研磨(CMP)工(gong)藝(yi)提出了挑(tiao)戰。
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本實用新型涉及一(yi)種化學(xue)機械研(yan)磨(mo)設(she)(she)備,包括:研(yan)磨(mo)臺(tai)支(zhi)架(jia);少(shao)兩個研(yan)磨(mo)臺(tai),由下(xia)(xia)上分層設(she)(she)置于所述研(yan)磨(mo)臺(tai)支(zhi)架(jia)中,每(mei)一(yi)所述研(yan)磨(mo)臺(tai)上表面設(she)(she)置有研(yan)磨(mo)墊,下(xia)(xia)表面設(she)(she)置有支(zhi)撐。
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2012年1月18日-什(shen)么是(shi)研磨(mo)(mo)加工?發布(bu)時間(jian):2013-01-18來源(yuan):機械專(zhuan)家(jia)網利用涂敷或壓嵌在(zai)研具上的磨(mo)(mo)料顆粒,通過研具與工件在(zai)一定壓力。
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機械加工中哪些用到研磨工藝_百度知道
2013年7月26日-該(gai)項目開發的納(na)米級高效研(yan)磨加(jia)工技術(shu)在加(jia)工效率、加(jia)工成本(ben)、加(jia)工質量(liang)和加(jia)工精度(du)上具有明(ming)顯(xian)的優勢,具有很(hen)好的應用(yong)前(qian)景。項目組研(yan)制出的采用(yong)本(ben)項新技術(shu)的。
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