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[圖(tu)文(wen)]該(gai)機(ji)對(dui)于(yu)研磨大批(pi)量(liang)物(wu)料來說是為經濟的(de)選擇,相對(dui)于(yu)其他研磨設備(bei),設備(bei)的(de)投入(ru)與結構(gou),按一定順序排列,研磨介質(zhi)分布(bu)均勻(yun),研磨效(xiao)率(lv)高,產品細度要達(da)到微米或納(na)米級(ji)。

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[圖文]2012年8月31日-在(zai)導(dao)入(ru)界面改質技(ji)術概念(nian)前,先前大家可利用三輥研磨、分散機(ji)、珠磨機(ji)、攪拌磨等(deng)分散研磨設備將材料(liao)分散研磨到微米或次微米級,但卻(que)很難達到納米級的。

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2013年2月8日-4納米級研磨(mo)(mo)裝置(zhi)納米級平(ping)面(mian)研磨(mo)(mo)已成為(wei)各種信息(xi)、光(guang)學等(deng)元件基(ji)片常(chang)用也是重要(yao)的(de)加工方式。在(zai)傳統的(de)研磨(mo)(mo)或拋光(guang)機上用硬質研磨(mo)(mo)盤或軟質拋光(guang)盤進行。

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運(yun)動(dong)現象逐漸明顯且重要,所(suo)以(yi),選擇適(shi)當助劑以(yi)避(bi)免(mian)粉體(ti)再次團聚,以(yi)及選擇適(shi)當的(de)研(yan)磨機來控制研(yan)磨漿料(liao)溫度(du)以(yi)降低(di)或避(bi)免(mian)布朗運(yun)動(dong)影響是濕法研(yan)磨和分散得(de)到(dao)納(na)米級(ji)粉體(ti)的(de)。

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